在通过弹幕了解到国内的厂商直接和岛国杠起来后，韩元并没有多说什么，而是转身继续完成制备单晶硅。
不过却有细心的观众和各国的专家们发现这名主播的讲解，似乎详细了不少。
“‘化学气相沉积-硅核心外延法’制备单晶硅最主要的方式一般是两种。”
“第一种是‘四氯化硅氢还原法’。”
“之前看过我制备碳化硅晶材的朋友应该就知道，‘四氯化硅氢还原法’是制取高纯度多晶硅的一种方法。”
“但事实上它同样是可以用来制备单晶硅的。”
“不过我今天使用的并非这个，而是第二种‘硅烷热分解法’。”
“相对于‘四氯化硅氢还原法’来说，‘硅烷热分解法’更加简单，制备流程走的步骤也更少一些。”
“不过有一点要注意。”
“那就是温度。”
“温度对硅烷外延生长速度影响不大，但对外延层质量影响很大。”
“例如，当温度高于1100℃时，外延层的自掺杂效应较为严重，反之，若温度过低，外延层的晶体完整性差、缺陷多。”
“实践证明:当用氢气作携带气体时，1050℃左右为最佳生长温度；影响硅烷外延生长速度的最主